Le nettoyage du wafer est un processus essentiel dans la fabrication des semi-conducteurs pour éliminer les contaminants, les particules et les résidus de la surface des wafers de silicium. Ce processus garantit la fiabilité et la fonctionnalité des circuits intégrés (CI) et autres dispositifs semi-conducteurs.
Durabilité supplémentaire
Les agents de nettoyage peuvent comprendre des acides, divers solvants et de l'eau, et ces résidus peuvent être présents, ce qui exige une durabilité accrue des sondes de mesure.
Vaisala propose des sondes résistantes à la corrosion, également sans pièces métalliques en contact avec le liquide, spécialement conçues pour le processus de nettoyage des plaquettes, tolérant à la fois une humidité élevée et des produits chimiques agressifs.
Il est important de veiller à ce que les copeaux soient secs après le nettoyage afin d'éviter la contamination et l'adhérence de particules.