Zuverlässige Messungen von Druck, Temperatur, Feuchte und Flüssigkeitskonzentration für erhöhte Erträge, mehr Sicherheit und leistungsstärkste Produkte
Kontakt>
eigener Reinraum seit
Hochmoderne Technologie für die Halbleiterfertigung
Halbleiterfabriken sind unsere Kunden
Erstklassige Siliziumchips werden durch den Einsatz hochentwickelter Maschinen und Verfahren und durch die Nutzung fundierter Kenntnisse hergestellt. Und hinter erfolgreichen Verfahren steht leistungsstarke Überwachungs- und Messtechnik.
Jeder Siliziumchip hat Anspruch darauf, wie vorgesehen zu funktionieren und bei seiner Herstellung genau die richtige Menge an Material, Energie und anderen Ressourcen zu verbrauchen.
Von der Herstellung von Halbleiterwafern und der Mikroelektronik bis hin zur Verpackung von Halbleitern: Statten Sie Ihre kritischen Verarbeitungsschritte mit vertrauenswürdigen und zuverlässigen Messungen aus, um stabile Qualität, hohe Erträge, Vorhersagbarkeit und Kosteneffizienz zu gewährleisten.
Unser Angebot umfasst Instrumente zur Messung von Feuchte, Taupunkt, Temperatur, Druck und Konzentrationen der Nasschemikalien. Jedes Produkt liefert präzise Daten zur Fertigungsumgebung. Es bietet höchste Genauigkeit, Langzeitstabilität und schnelle Ansprechzeiten zur Prozessoptimierung, Ertragssteigerung, Sicherheit und zu leistungsstärksten Chips.
Aus diesen Gründen ist Vaisala der bevorzugte Messpartner für Halbleiterhersteller und MEMS-Gießereien, Halbleiterausrüstungshersteller und Erstausrüster, Fabrikbetreiber und Materiallieferanten.
Von Front-End über Back-End bis hin zum Kunden sind wir für Sie da.
Auch der Feuchtegrad kann sich auf den Herstellungsprozess von Halbleitern auswirken. Übermäßige Feuchte kann zur Kondensation auf empfindlichen Geräten führen und möglicherweise Defekte in den Halbleiterbauelementen verursachen. Präzisionsklimaanlagen helfen bei der Feuchtesteuerung und dienen als vorbeugendes Mittel.
Die Waferreinigung ist ein kritischer Prozess bei der Halbleiterherstellung, um Verunreinigungen, Partikel und Rückstände von der Oberfläche von Siliziumwafern zu entfernen. Dieses Verfahren gewährleistet die Zuverlässigkeit und Funktionalität von integrierten Schaltkreisen und anderen Halbleiterbauelementen.
Reinigungsmittel können Säuren, verschiedene Lösemittel und Wasser enthalten. Diese Rückstände können wiederum vorhanden sein, weshalb von den Messsonden eine besonders lange Haltbarkeit verlangt wird.
Vaisala bietet korrosionsbeständige Sonden, auch ohne benetzte Metallteile, die speziell an die Waferreinigung angepasst und beständig gegenüber hoher Feuchte sowie aggressiven Chemikalien sind.
Es ist wichtig, nach der Reinigung für trockene Chips zu sorgen, um Verunreinigungen und Partikelanhaftungen zu vermeiden.
Waferstepper in der Fotolithografie ist ein weiterer kritischer Verarbeitungsschritt bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und anderen Halbleiterbauelementen. Bei diesem Schritt wird ein Lichtmuster auf einen mit lichtempfindlichem Material (Fotolack) beschichteten Siliziumwafer projiziert und so das gewünschte Muster in den Wafer geätzt. Daher darf die Feuchte in manchen Fotolithografiebereichen unter Umständen nur um ±1 % schwanken.
Hochwertige Messsonden in Steppern ermöglichen stabile Temperaturmessungen. Sie schützen die Wafer vor durch Temperaturschwankungen bedingten Abweichungen in den Musterabmessungen. Falsche Abmessungen der Wafermuster wirken sich negativ auf die Qualität und Leistung insgesamt der Halbleiterbauelemente aus.
Der Waferstepper benötigt präzise Optik, um Muster auf den Wafer zu projizieren und zu übertragen. Jegliche Schwankungen der Temperatur oder anderer Umgebungsbedingungen können die Stabilität und Genauigkeit dieser Optik beeinträchtigen.
Die Messung des Luftdrucks ist für die optische Präzision und Genauigkeit des Lithografieprozesses unerlässlich, da der Luftdruck direkten Einfluss auf den Brechungsindex der Luft hat. Dieser beeinflusst wiederum die Optik des Wafersteppers und die Wellenlänge des Lithografielichts.
Verhindern Sie defokussierte Bilder, indem Sie den Luftdruck mithilfe von schnellen und genauen Instrumenten messen und steuern.
Wafer-Prober-Maschinen erkennen defekte Wafer durch Testen der Chips. Die Tests werden bei kalten Temperaturen bis zu −40 °C durchgeführt. So wird sichergestellt, dass der Chip auch bei extremen Temperaturen funktioniert, beispielsweise wenn er später in einem Fahrzeug eingesetzt werden soll.
Die Testumgebung muss trocken gehalten werden, und die Taupunkttemperatur muss unter −40 °C liegen. So kann sich auf dem Chip kein Eis ablagern, das sich später bei Raumtemperatur in Wasser umwandeln und Verunreinigungen auf dem Chip ansammeln würde.
Vaisala bietet genaue Taupunktsonden für Chip-Prober-Maschinen.
Schützen Sie kostspielige Prozessgase vor Verunreinigung durch Feuchte. Die Gasqualität beeinträchtigt die Chipqualität erheblich, da selbst kleinste Verunreinigungen zu Defekten oder Ausfällen führen können. Feuchte kann mit bestimmten Materialien reagieren oder bei Prozessen wie Oxidation Defekte verursachen.
Eine Sonde mit schneller Ansprechzeit erkennt jegliche Feuchte umgehend und gibt Alarm, wenn der eingestellte Grenzwert erreicht wird.
Mit unseren empfindlichen Sonden können Sie den Differenzdruck im Reinraum problemlos gemäß ISO 14644-Standard halten. Das modulare Vaisala Indigo System ermöglicht es, Differenzdruck- und Feuchtemesssonden an denselben Indigo Messwertgeber anzuschließen.
Erfahren Sie mehr über unsere Differenzdrucksonden PDT101 und PDT102.
In den Halbleiterwaferanlagen werden während des gesamten Herstellungsprozesses Tonnen von Chemikalien verbraucht. Stellen Sie die Zuverlässigkeit jeder Chemikalie sicher, und vermeiden Sie Abweichungen von der Spezifikation, die zu einer kostspieligen Verunreinigung der Geräte und zu Waferausschuss führen können.
Fachartikel
Kundenberichte
Anwendungsbericht
Blog
Blog
Möchten Sie weitere Informationen zu einer bestimmten Anwendung oder einem bestimmten Produkt erhalten? Schreiben Sie uns, und wir melden uns bei Ihnen.
