Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer PR-33-S für flüssigchemische Halbleiterprozesse Ein kompaktes Refraktometer mit einem hochreinen modifizierten PTFE-Durchflusszellenkörper für flüssigchemische Halbleiterprozesse. Verbunden mit dem Prozess durch ein 0,25- bis 1-Zoll-Pillar- oder Flare-Anschlussstück. Das Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer PR-33-S überwacht die Konzentration von Fabrikchemikalien in Reinräumen und den integrierten Prozesswerkzeugen (Mischen, Reinigen, Ätzen und CMP). Kontaktieren Sie uns ALLE ANWENDUNGEN ERKUNDEN Das PR-33-S besteht aus einem hochreinen modifizierten PTFE-Durchflusszellenkörper und einem Ethernet-Kabel, das mit jedem Standard-PoE-Schalter (Power-over-Ethernet) genutzt werden kann, um den Sensor mit Strom zu versorgen und Daten an einen Computer zu übertragen. Das PR-33-S überwacht die Chemikalienkonzentrationen in Echtzeit und liefert ein Ethernet-Ausgangssignal sowie eine sofortige Rückmeldung, wenn die Chemikalie nicht den Spezifikationen entspricht. Beispielsweise können Alarme für niedrige und hohe Konzentrationen konfiguriert werden, um die Badlebensdauer zu steuern und zu verlängern. Für die Bestimmung der Konzentration wird eine optische Messung des Brechungsindex (nD) und der Temperatur einer Lösung durchgeführt. Das PR-33-S wird direkt linear mit einem Flare- oder Pillar-Anschlussstück montiert, verfügt über eine kompakte metallfreie Konstruktion und benötigt nur eine geringe Stellfläche. Wichtigste Merkmale: Kalibrierung rückführbar auf NIST, Überprüfung mit Standard-RI-Flüssigkeiten und validiertem Verfahren. Patentierte CORE-Optik (US-Patent Nr. US6067151). Fernanzeigedisplay über Ethernet zur Datenerfassung und Fernsteuerung. Die Kommunikation basiert auf Standard-UDP/IP-Protokollen. Prozesstemperaturbereich bei −20 … +85 °C. Schnelle Prozesstemperaturmessung durch eingebauten Pt1000 und automatische digitale Temperaturkompensation. Hauptvorteile Komplett digitales Gerät Das Vaisala K‑PATENTS® Halbleiterrefraktometer PR-33-S wird zur Prozesssteuerung und -überwachung eingesetzt und liefert ein kontinuierliches Ethernet-Ausgangssignal. Kompakte Bauart, Gerät wird direkt inline montiert. Genaue und stabile Messungen über den gesamten Bereich Voller Messbereich des Refraktionsindex (nD) 1,3200 bis 1,5300, was 0 bis 100 % pro Gewicht entspricht. Optionaler Bereich nD 1,2600 bis 1,4700 für starke HF. Typische Genauigkeit RI + 0,0002, was typischerweise 0,1 % pro Gewicht entspricht, z. B. für HCl in Wasser. Die Messung wird nicht durch Partikel, Blasen, turbulente Strömungen oder Verunreinigungen im ppm-Bereich beeinflusst. Einfache Wartung Patentiertes Design der optischen Elemente im Inneren. Keine Abweichungen. Keine Neukalibrierung. Keine mechanischen Justierungen. Produktdokumentation Docs.vaisala.com Weitere Downloads Broschüre: SERVICEVERTRAG Vaisala Prozessrefraktometer (499.38 KB) Kundenberichte Anwendungsbericht Warum Vaisala ein bevorzugter Anbieter für viele Halbleiterfabriken zur Qualifizierung der H2O2-Konzentration in CMP von Wolfram ist Die RI-Messung ist eine einfache, kostengünstige und genaue Technik, die Echtzeitinformationen über die Zusammensetzung von Schlämmen liefert, wodurch ein Refraktometer zum Messinstrument der Wahl für viele Fertigungsanlagen wird. Weitere Informationen
