반도체 공정, 설비 모니터링 및 관리를 위한 솔루션

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반도체 웨이퍼 및 마이크로 전자장치 제조는 실수가 용납되지 않는 까다로운 공정입니다. 이 산업은 화학 성분과 대기 조건을 정밀하게 측정하고 모니터링하는 고성능 기기의 사용이 매우 중요합니다. 당사는 대량 화학물질 및 슬러리 공급, 사용 지점 혼합, 스파이크 및 폴리싱 처리 시 인라인으로 농도를 모니터링하며, 반도체 장비와 설비 내부 및 주변의 습도, 이슬점, 온도 및 압력을 측정하는 반도체 공정 굴절계를 제공합니다.

애플리케이션

습식 화학 실시간

반도체 웨이퍼 공장의 전체 팹 공정에서는 엄청난 양의 화학물질이 사용됩니다. 각 화학 용액의 신뢰성이 팹에서 가장 중요합니다. 사양에서 약간만 벗어나도 고가의 장비가 오염되고 웨이퍼가 낭비될 수 있기 때문입니다.

팹 화학처리 공정 모니터링에 대해 자세이 알아보기

포토리소그래피의 웨이퍼 품질

반도체 제조에서 집적 회로 패턴의 품질은 스테퍼 조건에 좌우됩니다. 정확한 공기 압력, 온도 및 습도 측정으로 정밀 공조 및 웨이퍼 스테퍼 공정의 역량을 강화합니다.

압축 공기 및 N2 공정 라인

압축 공기 또는 질소 공정 라인을 사용하는 경우에 이슬점을 측정하면 장비의 과도한 공기 건조 및 부식을 방지하여 자원을 절약할 수 있습니다. Vaisala의 DRYCAP 기술을 사용하면 응답 시간이 빠르고 정확하며, 정비가 거의 필요 없습니다.

설비 관리

환기가 잘 안 되면 직원의 복지뿐만 아니라 생산성도 크게(18%) 감소합니다. 신뢰성, 내구성, 추적 가능성이 있는 HVAC 센서를 사용하여 습도, CO₂, 온도를 정확히 측정하기 때문에 에너지 효율성과 직원 복지를 동시에 충족할 수 있습니다.

왜 Vaisala인가?

Vaisala는 반도체 산업 전문업체로서 고객이 신뢰할 수 있는 파트너입니다.
당사는 화학물질 및 공정 품질 모니터링에서 외기 모니터링까지 중요한 여러 반도체 공정에서 사용되는 제품을 설계하고 제조하고 있어 반도체 산업을 속속들이 잘 알고 있습니다.
당사는 자체 클린룸을 두고 있고 Vaisala 제품과 연구개발에 사용되는 고급 마이크로 칩을 제조하고 있어 공정을 완벽하게 파악하고 있습니다.

Vaisala는 전체 수명 주기에서 제품을 지원할 것이며, 현지 고객사 근처에서 우수한 서비스와 지원을 제공합니다.

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