La pulizia del wafer è un processo fondamentale nella produzione di semiconduttori, volto a rimuovere contaminanti, particelle e residui dalla superficie dei wafer di silicio. Questo processo garantisce l'affidabilità e la funzionalità dei circuiti integrati (CI) e di altri dispositivi semiconduttori.
Durata extra
I detergenti possono contenere acidi, vari solventi e acqua; potrebbero essere presenti residui che richiedono una maggiore resistenza delle sonde di misurazione.
Vaisala offre sonde resistenti alla corrosione anche senza parti metalliche a contatto con il fluido, appositamente studiate per il processo di pulizia dei wafer, in grado di tollerare sia un'elevata umidità sia sostanze chimiche aggressive.
Dopo la pulizia è importante assicurarsi che i trucioli siano asciutti per evitare contaminazioni e l'adesione delle particelle.