Nachätz-Restentfernung mit EKC®-Chemikalien Das Verfahren zur Entfernung von Polymerresten nach dem Ätzen beseitigt Polymere von der Oberfläche von Wafern. Dies erfolgt im Sprühwerkzeug für Lösungsmittel, dem eine häufig verwendete Nachätzchemikalie, EKC®, zugeführt wird. EKC®-Nachreinigungsbehandlungen Es ist sehr wichtig, die EKC®-Lösung im Bereich der Spezifikationen zu halten – zu viel Wasser in der Lösung kann das System korrodieren, und zu wenig Wasser in der Lösung entfernt die Polymere nicht effizient. Das Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer bietet zwei verschiedene Steuerungsstrategien, um entweder die Nachfüllung von Chemikalien oder die Spikebildung nach jedem Waferdurchlauf zu automatisieren und eine sichere Waferproduktion zu gewährleisten. Das Halbleiterrefraktometer kann auch vor potenziellen EKC®-Spuren in IPA warnen, bevor IPA im darauffolgenden IPA-/Trockenverfahren mit EKC® kontaminiert wird. Fabriken können mit einem Halbleiterrefraktometer klare Vorteile erzielen: Steigerung des Waferdurchsatzes und Reduzierung des EKC®-Verbrauchs Verwendung des Halbleiterrefraktometers als Überwachungsmittel für verschiedene Chemikalien und zur Verhinderung einer Chemikalienvermischung Im Anwendungshinweis von Vaisala wird erklärt, wie mit einem Halbleiterrefraktometer der Prozess dank empfohlener Montagestellen für optimale Leistung verbessert werden kann. EKC® ist ein eingetragenes Warenzeichen von E. I. du Pont de Nemours and Company. Laden Sie den Anwendungshinweis (PDF) herunter, indem Sie das Formular ausfüllen. Alle Anwendungen in der Überwachung von und Fehlererkennung in Fabrikchemikalienprozessen Image Email Address*First Name*Last Name*Country*--Please Select--United StatesUnited KingdomCanadaChinaIndiaJapanAustraliaBrazilFranceGermanyFinland--------------AfghanistanÅland IslandsAlbaniaAlgeriaAmerican SamoaAndorraAngolaAnguillaAntarcticaAntigua and BarbudaArgentinaArmeniaArubaAustraliaAustriaAzerbaijanBahamasBahrainBangladeshBarbadosBelarusBelgiumBelizeBeninBermudaBhutanBoliviaBosnia and HerzegovinaBotswanaBouvet IslandBrazilBrit/Indian Ocean Terr.Brunei DarussalamBulgariaBurkina FasoBurundiCambodiaCameroonCanadaCape VerdeCayman IslandsCentral African RepublicChadChileChinaChristmas IslandCocos (Keeling) IslandsColombiaComorosCongoCongo, The Dem. Republic OfCook IslandsCosta RicaCôte D'IvoireCroatiaCubaCyprusCzech RepublicDenmarkDjiboutiDominicaDominican RepublicEcuadorEgyptEl SalvadorEquatorial GuineaEritreaEstoniaEthiopiaFalkland IslandsFaroe IslandsFijiFinlandFranceFrench GuianaFrench PolynesiaFrench Southern Terr.GabonGambiaGeorgiaGermanyGhanaGibraltarGreeceGreenlandGrenadaGuadeloupeGuamGuatemalaGuineaGuinea-BissauGuyanaHaitiHeard/McDonald Isls.HondurasHong KongHungaryIcelandIndiaIndonesiaIranIraqIrelandIsraelItalyJamaicaJapanJordanKazakhstanKenyaKiribatiKorea (North)Korea (South)KuwaitKyrgyzstanLaosLatviaLebanonLesothoLiberiaLibyaLiechtensteinLithuaniaLuxembourgMacauMacedoniaMadagascarMalawiMalaysiaMaldivesMaliMaltaMarshall IslandsMartiniqueMauritaniaMauritiusMayotteMexicoMicronesiaMoldovaMonacoMongoliaMontenegroMontserratMoroccoMozambiqueMyanmarN. Mariana Isls.NamibiaNauruNepalNetherlandsNetherlands AntillesNew CaledoniaNew ZealandNicaraguaNigerNigeriaNiueNorfolk IslandNorthern IrelandNorwayOmanPakistanPalauPalestinian Territory, OccupiedPanamaPapua New GuineaParaguayPeruPhilippinesPitcairnPolandPortugalPuerto RicoQatarReunionRomaniaRussian FederationRwandaSaint Kitts and NevisSaint LuciaSamoaSan MarinoSao Tome/PrincipeSaudi ArabiaSenegalSerbiaSeychellesSierra LeoneSingaporeSlovak RepublicSloveniaSolomon IslandsSomaliaSouth AfricaSpainSri LankaSt. HelenaSt. Pierre and MiquelonSt. Vincent and GrenadinesSudanSurinameSvalbard/Jan Mayen Isls.SwazilandSwedenSwitzerlandSyriaTaiwanTajikistanTanzaniaThailandTimor-LesteTogoTokelauTongaTrinidad and TobagoTunisiaTurkeyTurkmenistanTurks/Caicos Isls.TuvaluUgandaUkraineUnited Arab EmiratesUnited KingdomUnited StatesUS Minor Outlying Is.UruguayUzbekistanVanuatuVatican CityVenezuelaViet NamVirgin Islands (British)Virgin Islands (U.S.)Wallis/Futuna Isls.Western SaharaYemenZambiaZimbabweState or Province*--Please Select--Other - not US or CAAlaskaAlabamaArkansasArizonaCaliforniaColoradoConnecticutD.C.DelawareFloridaMicronesiaGeorgiaHawaiiIowaIdahoIllinoisIndianaKansasKentuckyLouisianaMassachusettsMarylandMaineMichiganMinnesotaMissouriMarianasMississippiMontanaNorth CarolinaNorth DakotaNebraskaNew HampshireNew JerseyNew MexicoNevadaNew YorkOhioOklahomaOregonPennsylvaniaRhode IslandSouth CarolinaSouth DakotaTennesseeTexasUtahVirginiaVermontWashingtonWisconsinWest VirginiaWyomingAlbertaManitobaBritish ColumbiaNew BrunswickNewfoundland and LabradorNova ScotiaNorthwest TerritoriesNunavutOntarioPrince Edward IslandQuebecSaskatchewanYukon TerritoryCompany*TitleBusiness Phone*I authorize Vaisala to send me information about relevant products and services. In unserer Datenschutzrichtlinie finden Sie weitere Informationen. Hier können Sie Ihre persönlichen Einstellungen jederzeit ändern oder sich abmelden.
Das Verfahren zur Entfernung von Polymerresten nach dem Ätzen beseitigt Polymere von der Oberfläche von Wafern. Dies erfolgt im Sprühwerkzeug für Lösungsmittel, dem eine häufig verwendete Nachätzchemikalie, EKC®, zugeführt wird. EKC®-Nachreinigungsbehandlungen Es ist sehr wichtig, die EKC®-Lösung im Bereich der Spezifikationen zu halten – zu viel Wasser in der Lösung kann das System korrodieren, und zu wenig Wasser in der Lösung entfernt die Polymere nicht effizient. Das Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer bietet zwei verschiedene Steuerungsstrategien, um entweder die Nachfüllung von Chemikalien oder die Spikebildung nach jedem Waferdurchlauf zu automatisieren und eine sichere Waferproduktion zu gewährleisten. Das Halbleiterrefraktometer kann auch vor potenziellen EKC®-Spuren in IPA warnen, bevor IPA im darauffolgenden IPA-/Trockenverfahren mit EKC® kontaminiert wird. Fabriken können mit einem Halbleiterrefraktometer klare Vorteile erzielen: Steigerung des Waferdurchsatzes und Reduzierung des EKC®-Verbrauchs Verwendung des Halbleiterrefraktometers als Überwachungsmittel für verschiedene Chemikalien und zur Verhinderung einer Chemikalienvermischung Im Anwendungshinweis von Vaisala wird erklärt, wie mit einem Halbleiterrefraktometer der Prozess dank empfohlener Montagestellen für optimale Leistung verbessert werden kann. EKC® ist ein eingetragenes Warenzeichen von E. I. du Pont de Nemours and Company. Laden Sie den Anwendungshinweis (PDF) herunter, indem Sie das Formular ausfüllen. Alle Anwendungen in der Überwachung von und Fehlererkennung in Fabrikchemikalienprozessen Image Email Address*First Name*Last Name*Country*--Please Select--United StatesUnited KingdomCanadaChinaIndiaJapanAustraliaBrazilFranceGermanyFinland--------------AfghanistanÅland IslandsAlbaniaAlgeriaAmerican SamoaAndorraAngolaAnguillaAntarcticaAntigua and BarbudaArgentinaArmeniaArubaAustraliaAustriaAzerbaijanBahamasBahrainBangladeshBarbadosBelarusBelgiumBelizeBeninBermudaBhutanBoliviaBosnia and HerzegovinaBotswanaBouvet IslandBrazilBrit/Indian Ocean Terr.Brunei DarussalamBulgariaBurkina FasoBurundiCambodiaCameroonCanadaCape VerdeCayman IslandsCentral African RepublicChadChileChinaChristmas IslandCocos (Keeling) IslandsColombiaComorosCongoCongo, The Dem. Republic OfCook IslandsCosta RicaCôte D'IvoireCroatiaCubaCyprusCzech RepublicDenmarkDjiboutiDominicaDominican RepublicEcuadorEgyptEl SalvadorEquatorial GuineaEritreaEstoniaEthiopiaFalkland IslandsFaroe IslandsFijiFinlandFranceFrench GuianaFrench PolynesiaFrench Southern Terr.GabonGambiaGeorgiaGermanyGhanaGibraltarGreeceGreenlandGrenadaGuadeloupeGuamGuatemalaGuineaGuinea-BissauGuyanaHaitiHeard/McDonald Isls.HondurasHong KongHungaryIcelandIndiaIndonesiaIranIraqIrelandIsraelItalyJamaicaJapanJordanKazakhstanKenyaKiribatiKorea (North)Korea (South)KuwaitKyrgyzstanLaosLatviaLebanonLesothoLiberiaLibyaLiechtensteinLithuaniaLuxembourgMacauMacedoniaMadagascarMalawiMalaysiaMaldivesMaliMaltaMarshall IslandsMartiniqueMauritaniaMauritiusMayotteMexicoMicronesiaMoldovaMonacoMongoliaMontenegroMontserratMoroccoMozambiqueMyanmarN. Mariana Isls.NamibiaNauruNepalNetherlandsNetherlands AntillesNew CaledoniaNew ZealandNicaraguaNigerNigeriaNiueNorfolk IslandNorthern IrelandNorwayOmanPakistanPalauPalestinian Territory, OccupiedPanamaPapua New GuineaParaguayPeruPhilippinesPitcairnPolandPortugalPuerto RicoQatarReunionRomaniaRussian FederationRwandaSaint Kitts and NevisSaint LuciaSamoaSan MarinoSao Tome/PrincipeSaudi ArabiaSenegalSerbiaSeychellesSierra LeoneSingaporeSlovak RepublicSloveniaSolomon IslandsSomaliaSouth AfricaSpainSri LankaSt. HelenaSt. Pierre and MiquelonSt. Vincent and GrenadinesSudanSurinameSvalbard/Jan Mayen Isls.SwazilandSwedenSwitzerlandSyriaTaiwanTajikistanTanzaniaThailandTimor-LesteTogoTokelauTongaTrinidad and TobagoTunisiaTurkeyTurkmenistanTurks/Caicos Isls.TuvaluUgandaUkraineUnited Arab EmiratesUnited KingdomUnited StatesUS Minor Outlying Is.UruguayUzbekistanVanuatuVatican CityVenezuelaViet NamVirgin Islands (British)Virgin Islands (U.S.)Wallis/Futuna Isls.Western SaharaYemenZambiaZimbabweState or Province*--Please Select--Other - not US or CAAlaskaAlabamaArkansasArizonaCaliforniaColoradoConnecticutD.C.DelawareFloridaMicronesiaGeorgiaHawaiiIowaIdahoIllinoisIndianaKansasKentuckyLouisianaMassachusettsMarylandMaineMichiganMinnesotaMissouriMarianasMississippiMontanaNorth CarolinaNorth DakotaNebraskaNew HampshireNew JerseyNew MexicoNevadaNew YorkOhioOklahomaOregonPennsylvaniaRhode IslandSouth CarolinaSouth DakotaTennesseeTexasUtahVirginiaVermontWashingtonWisconsinWest VirginiaWyomingAlbertaManitobaBritish ColumbiaNew BrunswickNewfoundland and LabradorNova ScotiaNorthwest TerritoriesNunavutOntarioPrince Edward IslandQuebecSaskatchewanYukon TerritoryCompany*TitleBusiness Phone*I authorize Vaisala to send me information about relevant products and services. In unserer Datenschutzrichtlinie finden Sie weitere Informationen. Hier können Sie Ihre persönlichen Einstellungen jederzeit ändern oder sich abmelden.