半导体湿化学品 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业折光仪 PR-33-S/-23-MS 设计精良，用于晶圆制程中使用的湿化学品进行实时浓度监测。 半导体湿化学品 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业折光仪可替代一些传统上比较昂贵且复杂的分析仪，在晶圆清洗、湿法刻蚀、刻蚀后晶圆清洗和化学机械研磨 (CMP) 等晶圆处理制程中（例如在湿法工作台和湿法工艺）广泛存在的化学品供应、现场混合、补液、刻蚀和监测等环节均可应用。 如果化学品与规格不符，该半导体行业折光仪会立即向控制系统反馈。可以设置低浓度和高浓度警报，避免在储运环节或化学品供应系统中出现问题。 使用折光仪进行实时监测可以提升晶圆的潜在产量，通过延长化学品溶液使用时间和优化化学品消耗来实现。精确的化学品控制，取决于化学品浴液和顺序、化学品浓度、清洁时间和温度。 维萨拉的应用报告解释了半导体行业用折光仪，在推荐的安装位置上，改进不同制程工艺步骤以实现最佳性能。 填写表格下载应用报告。 了解晶圆厂化学品工艺监测和故障检测方面的所有应用 Image 点击提交代表您已阅读并同意维萨拉可能会出于《维萨拉隐私政策》中所述目的处理您的个人信息，及根据本政策向中国境外传输。详情请阅读 《维萨拉隐私政策》， 您可以随时在此处修改您的偏好设置或取消订阅。
维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业折光仪 PR-33-S/-23-MS 设计精良，用于晶圆制程中使用的湿化学品进行实时浓度监测。 半导体湿化学品 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业折光仪可替代一些传统上比较昂贵且复杂的分析仪，在晶圆清洗、湿法刻蚀、刻蚀后晶圆清洗和化学机械研磨 (CMP) 等晶圆处理制程中（例如在湿法工作台和湿法工艺）广泛存在的化学品供应、现场混合、补液、刻蚀和监测等环节均可应用。 如果化学品与规格不符，该半导体行业折光仪会立即向控制系统反馈。可以设置低浓度和高浓度警报，避免在储运环节或化学品供应系统中出现问题。 使用折光仪进行实时监测可以提升晶圆的潜在产量，通过延长化学品溶液使用时间和优化化学品消耗来实现。精确的化学品控制，取决于化学品浴液和顺序、化学品浓度、清洁时间和温度。 维萨拉的应用报告解释了半导体行业用折光仪，在推荐的安装位置上，改进不同制程工艺步骤以实现最佳性能。 填写表格下载应用报告。 了解晶圆厂化学品工艺监测和故障检测方面的所有应用 Image 点击提交代表您已阅读并同意维萨拉可能会出于《维萨拉隐私政策》中所述目的处理您的个人信息，及根据本政策向中国境外传输。详情请阅读 《维萨拉隐私政策》， 您可以随时在此处修改您的偏好设置或取消订阅。
