Halbleiternasschemikalien Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer PR-33-S/-23-MS wurden für die Echtzeit-Konzentrationsüberwachung von Nasschemikalien entwickelt, die bei der Siliziumwaferherstellung verwendet werden. Halbleiternasschemikalien Ein Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer dient als Ersatz für kostspielige und komplexe Analysatoren, die traditionell bei der Dosierung von Massenchemikalien verwendet werden. Weitere Einsatzgebiete umfassen Misch-, Spikebildungs-, Ätz- und Überwachungsanwendungen am Einsatzort während des gesamten Herstellungsprozesses in der Waferreinigung, Nassätzung, Waferreinigung nach dem Ätzen und chemisch-mechanischen Planarisierung (CMP), z. B. in einer Nassbank und einem Nassprozess. Das Halbleiterrefraktometer meldet dem Steuerungssystem sofort, wenn die Chemikalie außerhalb der Spezifikation liegt. Alarme für niedrige und hohe Konzentrationen können konfiguriert werden, um Fehler bei der Containerhandhabung oder Geräteausfälle am Verteilungspunkt zu vermeiden. Der Hauptvorteil der Echtzeitüberwachung mit dem Refraktometer ist die potenzielle Ertragsverbesserung in Form eines erhöhten Waferdurchsatzes. Dies wird durch eine verlängerte Badlebensdauer und die Optimierung des Chemikalienverbrauchs erreicht. Der genaue Chemikaliendurchfluss hängt von der Badchemie und -reihenfolge, der Chemikalienkonzentration, der Reinigungszeit und der Temperatur ab. Im Anwendungshinweis von Vaisala wird erklärt, wie mit einem Halbleiterrefraktometer verschiedene Prozessschritte dank empfohlener Montage für optimale Leistung verbessert werden können. Laden Sie den Anwendungshinweis (PDF) herunter, indem Sie das Formular ausfüllen. Alle Anwendungen in der Überwachung von und Fehlererkennung in Fabrikchemikalienprozessen Image In unserer Datenschutzrichtlinie finden Sie weitere Informationen. Hier können Sie Ihre persönlichen Einstellungen jederzeit ändern oder sich abmelden.
Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer PR-33-S/-23-MS wurden für die Echtzeit-Konzentrationsüberwachung von Nasschemikalien entwickelt, die bei der Siliziumwaferherstellung verwendet werden. Halbleiternasschemikalien Ein Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer dient als Ersatz für kostspielige und komplexe Analysatoren, die traditionell bei der Dosierung von Massenchemikalien verwendet werden. Weitere Einsatzgebiete umfassen Misch-, Spikebildungs-, Ätz- und Überwachungsanwendungen am Einsatzort während des gesamten Herstellungsprozesses in der Waferreinigung, Nassätzung, Waferreinigung nach dem Ätzen und chemisch-mechanischen Planarisierung (CMP), z. B. in einer Nassbank und einem Nassprozess. Das Halbleiterrefraktometer meldet dem Steuerungssystem sofort, wenn die Chemikalie außerhalb der Spezifikation liegt. Alarme für niedrige und hohe Konzentrationen können konfiguriert werden, um Fehler bei der Containerhandhabung oder Geräteausfälle am Verteilungspunkt zu vermeiden. Der Hauptvorteil der Echtzeitüberwachung mit dem Refraktometer ist die potenzielle Ertragsverbesserung in Form eines erhöhten Waferdurchsatzes. Dies wird durch eine verlängerte Badlebensdauer und die Optimierung des Chemikalienverbrauchs erreicht. Der genaue Chemikaliendurchfluss hängt von der Badchemie und -reihenfolge, der Chemikalienkonzentration, der Reinigungszeit und der Temperatur ab. Im Anwendungshinweis von Vaisala wird erklärt, wie mit einem Halbleiterrefraktometer verschiedene Prozessschritte dank empfohlener Montage für optimale Leistung verbessert werden können. Laden Sie den Anwendungshinweis (PDF) herunter, indem Sie das Formular ausfüllen. Alle Anwendungen in der Überwachung von und Fehlererkennung in Fabrikchemikalienprozessen Image In unserer Datenschutzrichtlinie finden Sie weitere Informationen. Hier können Sie Ihre persönlichen Einstellungen jederzeit ändern oder sich abmelden.
