晶圆清洗时的化学品识别监测 清洁剂是晶圆厂中消耗量最大的液体化学品，其中，标准清洁剂 1 SC-1、标准清洁剂 2 SC-2、稀释氢氟酸 (DHF) 和 过氧硫酸清洗剂等混合溶液均用于去除晶圆上残留物。工厂需要严格把控各种化学品从储罐输送到清洗设备的过程，并在每个步骤之间使用去离子水 (DIW) 冲洗，以防止交叉污染。 晶圆清洗时的化学品识别监测 使用维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业折光仪将使得晶圆厂受益匪浅，因为该折光仪可以： 连续监测液体之间的界面，并允许流体从储罐持续输送到清洗设备。 支持清洁化学品和 DIW 的即时切换。 维萨拉的应用报告解释了半导体行业折光仪安装到推荐位置来改进工艺以实现最佳性能。 填写表格，即可下载 PDF 格式的应用说明。 了解晶圆厂化学工艺监测和故障检测方面的所有应用程序 Image 点击提交代表您已阅读并同意维萨拉可能会出于《维萨拉隐私政策》中所述目的处理您的个人信息，及根据本政策向中国境外传输。详情请阅读 《维萨拉隐私政策》， 您可以随时在此处修改您的偏好设置或取消订阅。
清洁剂是晶圆厂中消耗量最大的液体化学品，其中，标准清洁剂 1 SC-1、标准清洁剂 2 SC-2、稀释氢氟酸 (DHF) 和 过氧硫酸清洗剂等混合溶液均用于去除晶圆上残留物。工厂需要严格把控各种化学品从储罐输送到清洗设备的过程，并在每个步骤之间使用去离子水 (DIW) 冲洗，以防止交叉污染。 晶圆清洗时的化学品识别监测 使用维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业折光仪将使得晶圆厂受益匪浅，因为该折光仪可以： 连续监测液体之间的界面，并允许流体从储罐持续输送到清洗设备。 支持清洁化学品和 DIW 的即时切换。 维萨拉的应用报告解释了半导体行业折光仪安装到推荐位置来改进工艺以实现最佳性能。 填写表格，即可下载 PDF 格式的应用说明。 了解晶圆厂化学工艺监测和故障检测方面的所有应用程序 Image 点击提交代表您已阅读并同意维萨拉可能会出于《维萨拉隐私政策》中所述目的处理您的个人信息，及根据本政策向中国境外传输。详情请阅读 《维萨拉隐私政策》， 您可以随时在此处修改您的偏好设置或取消订阅。
